EUV 관련주 상승이유
삼성전자가 광투과율 90% 이상의 EUV 펠리클 도입
EUV 펠리클은 노광 공정에서 포토마스크용 방진 커버로 사용
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Samsung introduces EUV pellicle to improve non-defective product rate in semiconductor manufacturing with 3nm process - iPhone W
Samsung Electronics announced that it will introduce Extreme Ultra-Violet (EUV) pellicles for the purpose of improving the non-defective rate in semiconductor manufacturing in the 3nm process. Samsung ahead of TSMC in semiconductor manufacturing on 3nm p
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EUV 펠리클 국산화 막바지
파운드리 수율 높일 핵심부품
삼성전자가 투자한 코스닥社
에프에스티·에스앤에스텍
"연내 투과율 90% 제품 양산"
삼성전자가 대만 TSMC를 따라잡기 위해 ‘극자외선 펠리클(EUV·extreme ultraviolet pellicle)’ 자체 수급에 사활을 걸고 있다. 파운드리(반도체 위탁생산) 수율을 높여줄 핵심 부품인 EUV 펠리클은 외국산이 선점하고 있어 국산화가 시급한 상황이다. 국내에선 코스닥시장 상장사 에프에스티와 에스앤에스텍이 양산 막바지 단계에 접어든 것으로 알려지고 있다.
한국 중소기업이 연내 상용화에 성공한다면 단숨에 글로벌 선두주자로 나설 것으로 전망된다. 에프에스티는 막바지 작업이 한창인 것으로 알려지고 있으며, 투과율은 90% 이상을 웃도는 것으로 추정된다.
에스앤에스텍도 이르면 올해부터 투과율 90%가 넘는 EUV 펠리클 양산에 들어갈 가능성이 점쳐진다. 삼성전자 또한 투과율 88% 수준의 자체 EUV 펠리클을 개발하는 데 성공한 것으로 알려졌다.
EUV 펠리클은 공정 미세화로 수요가 늘고 있는 EUV 노광장비와 함께 사용하는 부품이다. 포토마스크(반도체 회로패턴을 그린 유리기판)에 먼지가 붙지 않도록 씌우는 얇은 필름을 말한다. 불량률을 낮추고 웨이퍼 투입량을 줄여줘 삼성전자와 TSMC가 확보하는 데 사력을 다하고 있다.
EUV 포토마스크 가격은 개당 5억~10억원, EUV 펠리클은 5000만~1억원에 달할 정도로 고가다. EUV 포토마스크는 전용 펠리클이 없으면 한두 번만 쓰고 버려야 한다. 이 때문에 파운드리 업체들은 오염된 비싼 포토마스크를 매번 바꿔가며 회로를 만들고 있다. 아무리 세척해도 불순물이 묻기 때문에 수율이 떨어지고 이는 곧 교체로 이어져 비용 부담이 커진다.
에프에스티와 에스앤에스텍은 수년전 삼성전자의 지분투자로 2대주주로 등극해 있는 상태이다.
본격 양산에 들어가게되면 삼성전자 파운드리에서 TSMC를 추격할수있는 절호의 기회로 작용될 전망이다.
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